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主營產(chǎn)品： 光學設備、電子計測儀器、科學儀器、機械加工設備、環(huán)境試驗設備、PC周邊用品、作業(yè)工具用品、物流保管用品、化學用品、FA自動化
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產(chǎn)品資料

化合物半導體用曝光設備
產(chǎn)品型號：MA-4000
簡介：

化合物半導體用曝光設備MA-4000 化合物半導體用曝光設備把涂有光刻膠的基板與掩膜重疊，光刻圖形的曝光裝置。為了實現(xiàn)多層曝光時的自動對位，裝配有顯微鏡和X?Y?θ對位臺。自動進行基板的供給、對位、曝光、排出。。

化合物半導體用曝光設備  的詳細介紹

化合物半導體用曝光設備MA-4000

深圳市京都玉崎電子有限公司
項目擔當：陳永康
電話：13717018123

Q  Q：2853007784

網(wǎng)址：www.0755bjgs.com

化合物半導體用曝光設備

化合物半導體用曝光裝置(Mask Aligner)

把涂有光刻膠的基板與掩膜重疊，光刻圖形的曝光裝置。為了實現(xiàn)多層曝光時的自動對位，裝配有顯微鏡和X?Y?θ對位臺。自動進行基板的供給、對位、曝光、排出。

主要特長化合物半導體用曝光設備
  • 采用獨自的平行調(diào)整機構,能夠高精度地設定掩膜與Wafer間的近接間隙。
  • 利用獨自的高速圖像處理技術,實現(xiàn)高精度的對位。
  • 利用圖像處理技術,使預對位可對應薄型基板或翹曲基板及水晶等易碎Wafer(選購項)。
  • 利用獨自的接觸壓力精密控制機構,能夠使Wafer與掩膜高精度地接觸。
  • 通過Wafer的背面真空吸著方式,實現(xiàn)高速度和高精度以及穩(wěn)定的自動搬送。
MA-4000裝置畫像
MA-4000タクトアップ機畫像
主要規(guī)格化合物半導體用曝光設備
  MA-4000
Wafer尺寸 ?2～4" ?4～6"
掩膜尺寸 □5" □7"
光源 超高壓水銀燈 ：500W or 1kW
外觀尺寸及重量 本體尺寸 W1340 x D1430 x H1900mm
本體重量 1120kg
選購項 生產(chǎn)管理系統(tǒng)(D-Net)、背面對位、○□基板兼用

化合物半導體用曝光設備基板尺寸和水銀燈瓦數(shù)及特殊規(guī)格可商洽